化学ニッケルめっきは、電子部品、機械部品、樹脂めっき品などで用いられており、その需要は拡大傾向してきています。化学ニッケルめっきは、化学反応に基づいてめっき皮膜が析出します。このため、めっき浴中での還元剤分解物の蓄積はさけられません。分解物濃度が増加すると皮膜組成や物性の悪化が起こるため、廃浴として破棄されます。現在、化学めっき廃浴の効率的な処理法が求められています。
ここでは、当研究所で開発した化学ニッケルめっき廃浴からの有価物の回収と処理法について紹介します。
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掲載してある内容は、講演会資料を大阪府立産業技術総合研究所表面化学グループホームページ用に編集したものです。なお、内容を参考とされた場合には、文献名を明記ください。本技術は、当研究所の所有特許です。内容につきましては、当研究所研究調整課にお問い合わせくださいますようお願いいたします。
last updated 7 May. 1998
Tsutomu Morikawa
Technology Research Institute of Osaka Prefecture