大阪府立産業技術総合研究所情報電子部電子・光材料系フォトニクス分野技術シーズ                                                              
 Thu, Jun 5, 2008
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プラズモン共鳴構造体及びその制御方法
微細構造体の製造方法(マスク開口率によるドライエッチング深さ制御)
微細構造体の製造方法(ニューラルネットワークを用いた電線描画のドーズ量決定手法)

プラズモン共鳴構造体及びその制御方法
対象業種 光学部品製造業、精密機器製造業、電子機器製造業、薄膜表面加工業、半導体製造業
技術の内容  プラズモン共鳴とは、金属表面で生じる光と電子の共鳴現象のことであり、共鳴が生じると著しく増強した電場が発生します。このような共鳴が得られるプラズモン共鳴構造体として、例えば金属の微細な突起構造が挙げられます。プラズモン共鳴構造体の応用例の一つにセンサがあり、各種の高感度ガスセンサ、液体センサ、バイオセンサの開発が可能となります。本発明は、プラズモン共鳴構造体における増強電場の位置制御に関するものであり、その位置を制御することで感度の向上などの新たな効果を得ることができます。
関連特許 プラズモン共鳴構造体及びその制御方法 【特願2007-030731】出願中
関連発表 [紹介スライド]
担 当 者 情報電子部 電子・光材料系 楠 文経(TEL.0725-53-1121)、森脇、佐藤、福田
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マスク開口率によるドライエッチング深さ制御
対象業種 光学部品製造業、精密機器製造業、電子機器製造業、薄膜表面加工業、半導体製造業
技術の内容  マイクロレンズやブレーズ回折格子など、いわゆるマルチレベルの微細光学素子を基板材上に直接形成する、新しい方式の提案です。目的形状の高さに応じて、バイナリ型のレジストあるいは金属膜マスクの微細開口の大きさに変化を持たせ、プラズマ異方性エッチングにより、直接基板面に高さの差を生じさせようというものです。このとき目的形状表面に残留する極微細な凹凸は、反射低減の好ましい効果をもたらします。加工の簡素化と成形物の機能向上を同時に実現する提案です。
関連特許 微細構造体の製造方法 【特開2008-112036】公開中
関連発表 平成18年度大阪府立産業技術総合研究所研究発表会要旨集,B-04,p.30(予稿PDF)[展示パネル]
担 当 者 情報電子部 電子・光材料系 森脇 耕介 (TEL.0725-51-2611)
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ニューラルネットワークを用いた電子線描画のドーズ量決定手法
対象業種 光学部品製造業、精密機器製造業、電子機器製造業、薄膜表面加工業、半導体製造業
技術の内容  超微細加工方法の一つである電子線リソグラフィによって、アナログレジストの厚み方向のマルチレベル構造を作製する工程を簡略化することを目的とした,設計形状を得るための最適な電子線量(ドーズ量)分布を、ニューラルネットワーク(以下NN)を用いた学習・想起によって導出する手法です。
 例えば計算機ホログラム(
Computer Generated Hologram)の厚み分布(設計形状)を予備的に一度加工し、そのときの形状測定結果(入力)とドーズ量分布(出力)との対応関係を、3層の階層型NNに誤差逆伝搬法により学習させます。設計形状に対するドーズ量分布を学習済みNNに想起させて再加工したところ、設計形状により近い加工結果が得られ、ドーズ量分布の近接効果補正に利用できる可能性が認められました。
 通常、マルチレベル構造についてはドーズ量の最適分布条件の決定に反復的試行錯誤が必要ですが、この手法は予備加工と本加工のみで工数を低減でき、熟練や職人的技能に依存しない効率的な簡便手法と言えます。
関連特許 微細構造体の製造方法 【特開2006-276116】公開中
関連発表 平成17年度大阪府立産業技術総合研究所研究発表会要旨集,C-12,p.56(予稿PDF)[展示パネル]
担 当 者 情報電子部 電子・光材料系 森脇 耕介 (TEL.0725-51-2611)
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